產品介紹
NEMST-Jet2008III 系列
電弧噴射式常壓電漿清洗機(旋轉式)
- 電弧噴射(Arc Jet)電漿設計。
- 可使用多種反應氣體。
- 能量集中，效果佳。
- 處理速度快。
- 處理間距(距樣品)高。
- 可單機或線上模組化。
- 屬間接式電漿。
- 可適用各種材料及各形狀材料。
- 反應氣體：以CDA為主的氣體，亦可採用其他氣體
- 反應氣體耗量少，運作成本低
- 電漿有效處理範圍：Φ20 mm ~ 50 mm
- 處理速度：50 mm/sec ~ 300 mm/sec
- 處理間距(距樣品)：5 mm ~ 15 mm
- 啟動速度快: < 0.5sec
- 電漿穩定性高
- 屬間接式電漿，無靜電(ESD)殘留問題
- 可適用各種材料及各形狀材料
- a. LCM中的ITO Lead/Finger清潔(COG 或COF製程前)。
- b. 各式電子元件/非電子元件及材料之表面清潔及改質。
- c. 各項材料貼合或塗佈前處理製程。
- d. 通用LCD及觸控各式前、後段各式製程。
- e. 成長薄膜之應用。